Durante las últimas décadas, la evolución de la informática ha estado marcada por la miniaturización de los circuitos mediante la litografía ultravioleta extrema (EUV), dominada actualmente por la neerlandesa ASML. Sin embargo, este proceso está alcanzando sus límites físicos y económicos. En este contexto surge Lace Lithography, una startup cofundada por el físico y experto en inteligencia artificial Adrià Salvador, que propone una alternativa basada en el uso de haces de átomos de helio para diseñar chips más potentes y eficientes.
Lace Lithography, con sedes en Bergen (Noruega) y Barcelona, presenta esta tecnología innovadora que emplea la longitud de onda atómica, 120 veces menor que la de la luz utilizada en la litografía tradicional. Esto permite generar transistores de tamaño mucho más reducido, impulsando la fabricación de semiconductores con mayor capacidad y menor consumo energético. Según Salvador, esta revolución en la impresión de circuitos podría responder a la creciente demanda de computación avanzada, sobre todo en áreas como la inteligencia artificial, donde el actual rendimiento de chips supone un cuello de botella.
El proyecto no es solo una idea, sino que ya cuenta con una financiación sólida de 60 millones de dólares, captada de inversores destacados como Microsoft, Atomico y el fondo vinculado a Steve Jurvetson, consejero de SpaceX, además del respaldo español a través de Sepi Digital. La hoja de ruta de Lace incluye la prueba de un prototipo en un centro de investigación en 2024 y plantea la integración en fundiciones de producción entre 2026 y 2027, un ritmo mucho más ágil que el habitual en el sector de la litografía.
El origen de esta propuesta innovadora está en un proyecto europeo que buscaba explorar la litografía atómica. La CEO y cofundadora de Lace Lithography, la física Bodil Holst, llevaba tiempo investigando esta vía, pero enfrentaba un problema técnico clave: el diseño de máscaras de litografía para átomos, un reto matemático complejo. La solución llegó con la inteligencia artificial, cuando Holst contó con la colaboración de Adrià Salvador, cuyo doctorado en Física lo ha llevado a investigar precisamente la reconstrucción de superficies 3D mediante átomos de helio y que, además, aporta experiencia en IA tras su paso por empresas como Glovo y Microsoft.
Este enfoque dual de física avanzada y algoritmos de inteligencia artificial permitió resolver el problema crítico para hacer viable la tecnología. De este modo, Lace Lithography surgió hace casi tres años, con la ambición de ofrecer no un reemplazo directo a la litografía de ASML, sino una extensión tecnológica que permita a la industria seguir avanzando a medida que crece la demanda de computación.
A día de hoy, Lace Lithography emplea a más de 50 profesionales, entre físicos, matemáticos e ingenieros en sus oficinas en Barcelona y Bergen. Mientras en España se concentra la investigación en IA, la simulación física y el prototipado, Noruega acoge el desarrollo de las máquinas. Además, la compañía está muy atenta a la ciberseguridad por el valor estratégico de su tecnología y el riesgo latente de espionaje industrial.
El futuro que plantea Adrià Salvador para la tecnología europea y española es ambicioso pero desafiante. El sector global de los chips se mueve con rapidez, con Estados Unidos y China acelerando sus inversiones en litografía. Por ello, Salvador reclama un apoyo más decidido en Europa y España para fortalecer las capacidades tecnológicas en este ámbito, que es clave para la economía y la innovación global.
La apuesta de Lace Lithography representa una promesa para superar las barreras actuales en diseño y producción de chips, que serán decisivas para desarrollar la inteligencia artificial y otras tecnologías que definirán el futuro cercano.
Para un análisis más detallado sobre litografía y fabricación de semiconductores, puede consultarse el informe de ASML y la información técnica disponible en la traducción del proyecto europeo, donde se conjuntan avances en física y IA para la innovación tecnológica.